第228章 晶圆突破3英寸 (第1/2页)

在何雨柱的絮叨下，时间到了午夜。

把500响鞭炮放了，扛起何雨柱送回了后院。

年后，去给许教授拜完年，这个年算是过完。

接下来的日子，他也懒得溜达，大部分时间待在家里。

这个阶段，他为了缩小COMS的体积，使用了各种方法。最后不得不考虑采用CVD技术。

就是所谓的气相沉积技术，目前可实现的主要方法就是使用热反应炉。

这些在技能书里也有应用。

但只是提了几句，里面重点讲解低压、激光、微波CVD技术。

这些技术的底层技术还没有发展起来，不具备可实现性。

倒是低压CVD技术未来几年可以考虑。

这在制备高质量、低缺陷的薄膜制备技术上运用较多。

目前普通的热反应炉也够用了，为了提高纯度，可以考虑氢气炉。

想到这些，他不得不低下头，设计这些基础设备。

这就像是技术套娃，从最低级的技术开始，慢慢往上叠，直到做到极致。

直到开学，李元一直在修改他的氢气反应炉。

新学期开始，李元先去找到许教授，在他的安排下，找到了班主任老师岑松岭老师。

他插班到导6班，全班加上他42人。

李元的到来，引起的全班同学的欢迎。

这可是整个学校典型学生代表。

不说他艺术家的名头，就他那非人的学习能力，就让同学们嫉妒不起来。

所以，作为插班生，李元没有遇到什么融入的困境。

大家都愿意帮助他，尤其是班长任民同学，把前三个学期的书本和笔记都借给了他。

有了这些资料，李元边学习新学期的课程，边自学之前的课程。

只用三个月，这些全都学习完成。

同时，他每天都会抽出时间到半导体实验室学习。

带着光环和许教授的亲自指点，他很快便融入了实验室。

实验室名义领头人是许教授，实质上，主抓管理的是他的学生龚黎明。

龚师兄35岁，精力充沛，1英寸单晶硅就是他负责拉制的。

现在主要有两个方向，一个是晶圆制备，另一个就是制备晶体管。

说实话，他们现在的方法是粗放式的，在

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